【适应证】

为明确错颌畸形的发病机制和儿童颌面部生长发育状况等，l可进行头影测量。

【操作程序及方法】

1.用描图纸描出头颅侧位X线片上的软硬组织头影图迹。

2.进行测量定点。

3.进行颅颌面结构的角度及线距测量。

4.根据测量结果分析错颌的机制。